電廠循環純化水水處(chu)理成套設(she)備

       利(li)用(yong)反滲透(tou)和EDI技術，在凈(jing)水(shui)過程中(zhong)不會產生污染(ran)物質，減(jian)少(shao)了水(shui)質的(de)二次污染(ran)，保證設備(bei)出水(shui)符合(he)行業(ye)用(yong)水(shui)需要，是制取超純(chun)水(shui)的(de)理(li)想選擇。

    電廠(chang)水處理設(she)備水質(zhi)標準

　　電(dian)(dian)子[1]  級電(dian)(dian)廠水(shui)處理設備(bei)出水(shui)水(shui)質(zhi)(zhi)完全符合(he)美國ASTM純(chun)水(shui)水(shui)質(zhi)(zhi)標(biao)準(zhun)、我國電(dian)(dian)子工業部電(dian)(dian)子級水(shui)質(zhi)(zhi)技術標(biao)準(zhun)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標(biao)準(zhun))、我國電(dian)(dian)子工業部高純(chun)水(shui)水(shui)質(zhi)(zhi)試行標(biao)準(zhun)、美國半導體(ti)工業用純(chun)水(shui)指標(biao)、日本集成電(dian)(dian)路水(shui)質(zhi)(zhi)標(biao)準(zhun)、國內外大規(gui)模集成電(dian)(dian)路水(shui)質(zhi)(zhi)標(biao)準(zhun)。

　　光(guang)電廠水處理設備工藝

　　1、預處理系(xi)統(tong)→反滲透系(xi)統(tong)→中(zhong)間水箱(xiang)→粗混合床(chuang)→精(jing)混合床(chuang)→純(chun)水箱(xiang)→純(chun)水泵→紫外線殺(sha)菌(jun)器→拋(pao)光混床(chuang)→精(jing)密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(傳(chuan)統(tong)工藝)。

　　2、預處(chu)理→反滲透→中間水(shui)箱→水(shui)泵→EDI裝(zhuang)置→純化水(shui)箱→純水(shui)泵→紫外線殺(sha)菌器(qi)→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器(qi)→用水(shui)對象(≥18MΩ.CM)(最新工藝)。

　　3、預處(chu)理→一級反(fan)滲(shen)(shen)透→加藥機(ji)(PH調(diao)節)→中間水(shui)箱→第二級反(fan)滲(shen)(shen)透(正電荷反(fan)滲(shen)(shen)膜)→純(chun)水(shui)箱→純(chun)水(shui)泵→EDI裝置→紫外(wai)線殺菌器→0.2或0.5μm精(jing)密過(guo)濾器→用水(shui)對(dui)象(≥17MΩ.CM)(最(zui)新工藝)。

　　4、預處理→反滲透→中間(jian)水箱(xiang)(xiang)→水泵→EDI裝置(zhi)→純水箱(xiang)(xiang)→純水泵→紫外線殺菌(jun)器→0.2或0.5μm精密過(guo)濾器→用水對(dui)象(≥15MΩ.CM)(最新工(gong)藝)。

　　5、預處(chu)理(li)系(xi)統→反滲透系(xi)統→中間水箱(xiang)→純水泵→粗混合(he)床→精混合(he)床→紫外線(xian)殺菌器→精密過(guo)濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(傳統工藝)。

電廠水處理設備報價

　　電廠(chang)水(shui)處理設(she)備在光電行業(ye)中的應用非常多(duo)，產水(shui)電阻率達(da)到了(le)18兆歐，完全滿足了(le)工業(ye)生產需要(yao)。該設(she)備報價是根據原水(shui)水(shui)質(zhi)、設(she)備型(xing)號、材質(zhi)等因(yin)素決(jue)定(ding)的。